昨天，一条荷兰金融报纸Financieele Dagblad的报道将荷兰半导体设备巨头ASML再次推上了风口浪尖，一度引发震怒，就连外交部都出面回复。

报道称，其美国子公司研发部门的高级中国员工从ASML窃取了企业机密，并最终泄露给了中国公司XTAL，造成了数亿美元损失。该事件被认为是“荷兰公司有史以来最大规模的间谍案”。

ASML是全球半导体产业上游最重要的公司之一，它垄断的半导体生产设备光刻机，关乎到世界上几百家公司的生死。

这家半导体超级霸主，对这则窃密新闻迅速做出了反应。

ASML分别在其官网和微信公众号上贴出官方声明：“ASML并不认同‘中国间谍’说”，“ASML并不是‘国家阴谋’的受害者”。

此事暂时告一段落，但ASML和中国的风波纠葛却从很久之前就开始。和中国企业打专利官司、不把高端光刻机设备卖给中国、禁止雇佣中国员工……

尽管ASML每一次都站出来辟谣，但这一次次事件的背后，仍然可以看到，在面对芯片半导体核心技术、核心设备的时候，各技术强国的谨小慎微姿态，包括与ASML相关的台前台后多个国家，也包括美国。

这家出厂的设备运转起来比印钞机还赚钱的ASML有着怎样的背景和不为人知的故事，值得我们深入的扒一扒。

一、隐形的半导体霸主，独步全球光刻机江湖

在说ASML的全球地位有多显赫之前，我们先说说芯片是怎样造出来的。

芯片制造的过程有点像盖房子，首先你要有设计图，明确哪一部分负责做什么、怎么设计才能达到更好的效果，这个方面最基础的设计逻辑就是ARM等公司垄断的知识产权（IP）。

有了设计图，还需要工人一点点加砖砌瓦，这个过程就需要处理材料的生产设备，其中最为核心也最难造的设备之一叫光刻机。

简单地说，光刻技术就是把图像投影到感光底片上，用光作为自己的“刀”，在平面上刻出繁复的图案。

遵循着摩尔定律，芯片越做越小，光刻机投影的那把刻刀也必须越来越小，毕竟，让几百纳米粗细的刀去刻出几纳米的线条，基本上是不可能的事。

但线条也不是越细越好，线条过细，投影会变模糊，所以线条粗细还不能低于光波长的一半。当前世界上最顶尖的极紫外（EUV）光刻机用13.5nm的极紫外光源，来刻10nm以下的线条。

光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在最先进技术是极紫外光。

无论是极紫外光源还是镜头、机械部件都极端精密，一台光刻机的装配大约需要50000个零件左右，几乎每个组件都具有较高的技术垄断性。

目前在全球范围，荷兰ASML公司正是垄断全球光刻机市场的霸主，占据了超过80%的份额，更是世界上迄今为止最高端的光刻机——EUV光刻机的唯一生产商，1台EUV光刻机的售价就超过了1亿美元。

相比之下，我国国内第一大光刻机制造商上海微电子的光刻机目前可实现90nm量产的水平，正在筹备跨过65nm的台阶。

也就是说，无论是台积电、三星还是英特尔，想要造出7nm和10nm芯片，就必须砸下天文数字买ASML的设备。

顶级光刻机的产量非常低，从2013年到2017年EUV出货量不到30台。根据ASML公开的2018年EUV光刻机设备订单，台积电预定了10台、三星预定了6台、英特尔预定3台、格芯1台、中芯国际1台。另外，ASML 2019年将计划出货30台EUV光刻机。

其中，国内晶圆代工大厂中芯国际几乎耗尽2017年的全部利润（约1.264亿美元），也要花1.2亿美元（折合人民币7.6亿）的天价从ASML手里订购走一台EUV光刻机，这也是迄今为止中国买到的第一台暨唯一一台EUV光刻机。

当然，不是说订完货就能拿到。首先订货得排队，交货期将近两年，交货后生产线调试约需一年，加到一起，从下订单到量产要至少三年。按照订购周期，中芯国际的EUV光刻机预计今年上半年到中国。

这台设备被寄予了厚望，希望中芯国际能借此突破10nm以下制程容易的瓶颈，助力我国高端芯片自主制造，突破芯片产能限制问题。

二、传奇飞升史：三星、英特尔、台积电三大金主

你可能没听说过ASML，但你一定知道飞利浦。